二手 EVG / EV GROUP 620 #9223622 待售

ID: 9223622
晶圓大小: 4"
Automated mask aligner, 4" Upgradable to 6".
EVG/EV GROUP 620是一種先進的掩模對準器,允許精確的光學光刻,具有大面積的均勻圖案。它能夠加工尺寸可達500毫米x 500毫米的基板,設計目的是滿足下一代光掩模市場的需求。該設備是基於一個工作單元的概念,使其高度通用和可靠。它配備了5種曝光模式,包括4場、半場、自動駕駛和全場掃描,以及一個專用的矯直機和旋轉系統,用於精確對準。該平臺配備了高分辨率的攝像機,可以對晶圓進行精確的視頻成像和觀察過程結果。EVG 620采用先進的光學單元,以確保高精度光刻,使用包括自動非球面掃描透鏡和氟化物物鏡在內的最先進的光學。該機進一步配備了專用的對準工具,允許高度自動化和可重復性。EV GROUP 620旨在簡化蒙版生產的集成過程,利用自動化表面清潔、高級晶圓和蒙版識別例程以及多個過程控制功能等多種功能。它還允許使用各種面罩尺寸和基材。該資產還配備了集成晶圓處理程序,允許晶圓的自動交換,使其成為高通量生產的理想選擇。此外,還可以定制軟件以滿足客戶的特定要求。最終,620掩模對齊器提供了性能、靈活性和精確度的獨特組合。它是生產復雜光掩模的強大工具,是光學光刻在微電子學、半導體和納米技術研究中的理想應用。
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