二手 EVG / EV GROUP 620 #9224786 待售

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ID: 9224786
優質的: 2006
Mask aligner Chuck, 4" (Soft & hard & vac contact) Chuck, 6" (Edge handling, proximity) Exposure light, Ø 6" Mask holder, 5"-7" Backside alignment Operating system: Windows XP 2006 vintage.
EVG/EV GROUP 620系列掩模對準器是為高精度光掩模對準和光刻制造而設計的先進光刻系統。該設備能夠在晶圓水平上以最小的溫度變化產生極其精確的圖像。EVG 620適用於包括過程控制和計量在內的一系列應用。它使用整體式LensScan 3D+視覺系統捕捉圖像,並用其數碼相機執行高級成像功能。這種成像技術高度精確,提供高達3.5微米的分辨率。對準器具有由伺服電動機驅動的高精度級,該級覆蓋53mm x 53 mm的行進範圍,可移動至25-4,000 mm/s之間,分辨率為0.02 mm。EV GROUP 620的自動對齊特性既可靠又強大。它具有0.7 μ m的高分辨率對準精度,可執行超快9µs模式對準。自動對齊功能還包括高級叠加和過程控制軟件。該單元還包括一個專有的超精確光學失真校正模塊,可實時運行。該模塊與阻抗過程兼容,在阻抗過程中,梁控制對於解決最高級別的結構至關重要。620符合DRIE和ICP蝕刻以及Cleans、Oxides、CMP和Dopant等化學工藝。它能夠進行單晶圓微掩模對準和過程控制,以及多掩模堆棧對準。EVG/EV Group 620的硬件實現了全自動運行,操作成本低,交付時間快。該機包括一個堅固的石墨平臺和一個5英寸的「合一」功能的加工室。它還配備了快速配方轉換和靈活的群集功能,以及可選的CD/CNS工具,用於多用戶操作。總之,EVG 620是一種高度先進的掩模對齊器,符合精密光刻和工藝控制的所有標準。它具有先進的成像功能、可靠的自動對準特性、堅固的硬件和靈活的操作,是滿足各種制造和計量需求的理想選擇。
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