二手 EVG / EV GROUP 620 #9232815 待售

EVG/EV GROUP 620是一款適用於各種不同應用的半自動掩模對齊器。其工藝重復性精度為2.0微米，基板級精度為3.0微米。該機器采用模塊化設計，可以在嵌入和非嵌入配置中操作。嵌入模式更適合一般的半導體晶圓處理，而非嵌入模式更適合高級掩蔽應用。它有一個專利的直接成像圖樣技術，稱為「Singleexposure」，其結果是卓越的成像精度和高生產吞吐量。這使機器能夠進行廣泛的過程，從濺射和離子註入到光刻膠回流和多級金屬化。EVG 620還具有全面的內置安全功能。其中包括檢測掩模和晶片對準精度不一致的內置傳感器，在對準偏離超過2微米時自動關閉光束，手動卸下掩模但自動對焦檢測以減少操作員錯誤的可能性，以及光纖光束修整技術以最小的分辨率損失保持特征尺寸。EV GROUP 620具有軟件用戶界面,允許用戶輕松配置機器的各個方面。這包括為特定的掩碼和基板類型設置工藝配方,為多級陣列創建跟蹤模板,以精確的像素精度將掩碼與晶片對齊,為批處理過程編號創建可堆疊的跟蹤列表,以及為每個應用程序調整曝光參數。軟件還具有預配置的配置文件,使用戶能夠快速高效地快速設置批處理過程。機器提供了一個清潔室兼容的環境，溫度範圍為10-38°C，相對濕度為60%，確保不會對過程造成不必要的幹擾。620還具有先進的精確對齊系統（APS）,可確保高度準確和可重復的對齊過程。這樣可以確保所需的模式完全按照用戶的規範進行註冊。總體而言,EVG/EV GROUP 620是一種可靠和靈活的掩模對齊器,可提供高質量的結果,並具有一致的可重復性。其模塊化設計和廣泛的集成安全功能使其成為任何需要高精度屏蔽的生產環境的強大且理想的選擇。