二手 EVG / EV GROUP 620 #9244743 待售

EVG/EV GROUP 620是一款用於半導體工業中高精度、高通量光刻應用的掩模對齊器。它是一種可靠、高性能的掩模對準器,配有集成的自動化掩模中心設備。該系統具有較高的對準精度和可重復性，以及對聚焦、壓力和間隙等暴露參數的精細控制。EVG 620配備了5軸XYZ級運動單元和6軸顯微鏡級，以獲得最佳的對準靈活性。兩級真空卡盤還保證了基板在高分辨率加工過程中的穩定性。步進器可容納高達200毫米的晶圓尺寸，是控制不同類型抗蝕劑的理想選擇，包括塗層-受體組合。它的高功率UV照明器提供出色的曝光均勻性、重復性和光通量。其內置的曝光控制器允許絕對劑量控制從25mJ/cm2到500mJ/cm2與0.02mL的曝光精度。更有甚者，該機以堅固的鑄鋁結構為基礎，保證了長期的穩定性和精度。該工具具有用戶友好的圖形界面以及直觀的菜單和控制資產，使其簡單易用。它還具有高級自動化功能,如具有居中功能的自動晶圓聚焦、自動標線對齊、自動過程校正以及執行不間斷、多產品處理的能力。最後,EV GROUP 620配備了廣泛的可自定義功能,例如3D映射模型、多掩碼對齊、多腔室功能以及邊到邊性能。設備是滿足光刻行業多樣化需求的寶貴工具。