二手 EVG / EV GROUP 620 #9261506 待售
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已售出
ID: 9261506
晶圓大小: 6"
優質的: 2001
Mask aligner, 6"
Mask size: 3"-5"
Substrate size: 2"-4"
Lamp power: 13 mW/cm²
Cassette loader
Exposure mode: Time / Constant energy
Plating type:
Proximity
Soft contact
Hard contact
Vacuum contact (Vacuum chamber)
Alignment accuracy:
Top: 5µm
Bottom: 1µm
Theoretical resolution:
Soft contact: <2µm
Hard contact: 0.8µm to 1.5µm
Vacuum contact: 0.6µm
2001 vintage.
EVG/EV GROUP 620是一種用於納米光刻、特別是光刻的掩模對齊器。它是一種半導體陣列儀器,能夠精確地將線條和通孔等模式轉移和對齊到基板上。EVG 620的主要部件是光柱、激光控制系統和晶圓級。Aligner EV GROUP 620的光學柱能夠透過各種面罩和標線投射光線,用以將圖案轉移到基板上。柱子上還裝有光傳遞和繼電器光學器件,如鍍鋅鏡,它們在基板上移動光的圖樣。此外,它還包含引導激光束的精密級,以便精確對齊圖樣。Aligner 620的激光控制系統用於調整激光的功率、波長和曝光時間,以匹配所需的模式。系統還包含光學元件,例如多語言視區,以便用戶在對齊模式時能夠確保準確性。最後,Aligner EVG/EV GROUP 620的晶圓級負責基板的運動。這些階段能夠以高精度快速定位和定位基板,從而使圖樣能夠正確和精確地對齊。EVG 620的行程範圍延長,可重復性為1 µm,可實現出色的定位精度。總體而言,EV GROUP 620 Mask Aligner是一種可靠、精確的光刻制圖儀器.利用其激光控制系統、光柱和晶片級,能夠快速有效地將圖樣轉移和對準基板。
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