二手 EVG / EV GROUP 620 #9268449 待售

EVG/EV GROUP 620是為精密光刻設計的最先進的掩模對準器。它具有先進的自動化、亞微米對準精度和較大的覆蓋區域。此設備具有4英寸（10厘米）全場掃描儀,可提供最大吞吐量,每小時最多可執行500次操作。獲得專利的垂直機器對齊（VMA）功能可確保平坦平面,即使在具有較大地形表面差異的結構上也能實現前所未有的直接寫入和叠加性能。該系統具有高度模塊化和可擴展性,允許針對用戶的特定需求定制一系列配置。它可以通過簡單的圖形用戶界面操作，也可以通過提供更高吞吐量和自動化的嵌入式計算機網絡操作。EVG 620有兩個主要組件：一個用於對齊器的主框架,以及一個用於實現設備與上下級掃描儀之間快速數據傳輸的轉導電子封裝。其基於執行器的光學機器確保了面罩印章與晶片的快速精確對準。該工具將可編程光束掃描儀級與嵌入式激光幹涉儀資產集成在一起，以實現亞微米對準精度。EV GROUP 620可用於在掩碼和晶片上放置覆蓋標記,以及創建直接寫入層。對於直接寫入過程，模型可以提供可變曝光級別。它與廣泛的材料兼容，包括光致抗蝕劑、氧化物和氮化物。該設備采用嚴格的質量控制標準制造，符合所有主要半導體鑄造廠的要求。它是精密光刻的可靠、經濟高效的解決方案。