二手 EVG / EV GROUP 620 #9276216 待售

EVG/EV GROUP 620是為光刻應用而設計的掩模對準設備。它被用於創建和印刷微電子元件的過程中，例如集成電路。該系統能夠打印小至10 nm的特征大小。該單位由兩個主要組成部分組成；對齊器和掩碼處理器。Aligner有一個大的X-Y電動級和投影儀投影模式到光刻塗層的基板如矽片。Mask Processor包括一個可旋轉的6軸機器人手臂、一個氣體輸送機、一個過程氣體監視器以及一個可容納多達25個不同的口罩和5個基板的口罩存儲和裝載工具。資產的對準精度高，平均對準誤差為1.2um或更低，並采用光學濾鏡模型以確保均勻曝光。Aligner還配備了內置真空設備，用於在面罩對準時增加精度，這也有助於降低空氣敏感性。該系統設計為用戶友好,具有控制軟件,可讓用戶輕松設計、修改或創建口罩,從而能夠精確打印基板兩側的圖樣。它還包括一個真空單元，允許更有效的清潔和烘烤基板。EVG 620有廣泛的應用，從基本圖樣打印到微元件的3D打印，以及用於高級電路制造的熱和電子束光刻。其高精度、靈活性和用戶友好的控制軟件意味著它適用於研究和教育項目，以及工業層面的原型設計。它的結構還可以方便地與其他設備集成，例如真空容器，以便更好的過程控制。