二手 EVG / EV GROUP 620 #9283060 待售

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ID: 9283060
優質的: 2008
Mask aligner Precision alignment, 6" Double side lithography Topside alignment (TSA) Bottomside alignment (BSA) Cassette to cassette handling (4) Objectives: 10x GENMARK 4S Robots with pre-aligner Motorized alignment stage (x, y, theta directions) to the 3-Axis joystick Microsoft based user interface Spare parts included No Manuals Power requirements: Power supply: 208 V, Single phase Frequency: 50/60 Hz Power consumption: 1.8 kW Air supply: CDA: 6 bar / 87 psi Nitrogen source: 6 bar / 87 psi Vacuum: <850 mbar / 646 Torr 2008 vintage.
EVG/EV GROUP 620是一種掩模對準器,設計用於產生納米級精度的結構。它是一種通用工具,設計用於產生異構、單層或多層材料結構和圖樣。該機采用光刻技術,並在納米精度的晶圓微結構的對準和測量方面取得了新的進展。EVG 620具有極其精確的特點,旨在確保一致的高性能焊接、圖案和蝕刻。該裝置包括高分辨率對準和納米級精度在結構和圖案的放置。步進器包括CCD相機,用於測量對準、z位置和結構位置。這樣就可以精確可靠地調整最終產品中產生的必要模式。EV GROUP 620是通過蒸發蒸發產生納米級結構極高分辨率圖像的理想選擇。該裝置利用蒸發技術對納米和亞微米特征尺寸所需的分子級材料進行精確汽化。步進器還使用專門的閉環自動對齊技術。這意味著步進器不斷進行校正,以確保掩模和基片之間的對齊。這樣可以提高最終產品的準確性。此外,620還包括一個預對齊和後對齊功能,可確保在此過程中掩模和晶片之間的對齊不受幹擾。預對齊階段在曝光前對齊掩模,後對齊有助於改善與晶片的對齊。EVG/EV GROUP 620配備了先進的正面和邊緣曝光器,以確保圖案正確暴露。步進器還包括諸如Auto Focus和Polarization等有助於提高圖案精度的功能。EVG 620提供了廣泛的等離子體蝕刻選項,可以幫助產生高精度的納米圖樣。它有氦氣等離子體工藝、氙氣等離子體工藝、氧氣等離子體工藝等選項。等離子體蝕刻圖樣具有很高的可靠性,可用於制造復雜的材料微結構。該設備對用戶友好,並附帶用於控制設備的用戶友好的ATC軟件。此軟件可輕松控制、監控和操作設備。它還包括自動參數調整、曲線擬合、統計分析和內置數據庫等工具。EV GROUP 620也有能力產生長寬比極高的圖案。它還被設計用於所有類型的檔案材料,包括金屬、玻璃、聚合物樹脂和陶瓷層。620是創建精確可靠的納米級結構和模式的不可或缺的工具。它是一種通用設備,可確保最終產品達到最高標準。
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