二手 EVG / EV GROUP 620 #9392780 待售

EVG/EV GROUP 620，又稱掩模對準器，是為精密光刻而設計的最先進的設備。可用於多種應用，如圖像修復、層傳輸、接觸和非接觸成像、圖像傳輸等。EVG 620有一個先進的光學觀察系統，允許操作員實時查看整個曝光場。它還提供了旨在提高生產率和降低成本的先進NGS （Next Generation Stepper）技術。NGS技術具有自動對齊控制功能,可實現最佳的註冊準確性,以及快速轉換和節省高達40%的時間。它還設計用於短曝光和長曝光,以生成高分辨率圖像。EV GROUP 620配備露天板功能，有助於在整個曝光周期內保持一致的溫度。它還可以提供高精度對齊點，可重復性為+/-0.1微米或更高。這確保了從0.5微米到5.5微米的各種工藝的暴露精度。620具有高精度的舞臺運動模組，提供超平滑的運動，速度為21毫米/秒。它還具有一個精密的熱成像單元，提供精確的溫度控制，最大限度地減少熱波動。它還有一個先進的真空機，為接觸應用提供高精度的薄膜附著力和高強度的壓力。高度自動化的EVG/EV GROUP 620提供了用戶友好的圖形用戶界面（GUI）。這允許用戶選擇諸如曝光-點放置、劑量-點調整和框架切割等功能。它還提供了一個可用於自定義掩碼的預定義掩碼庫。EVG 620還配備了兩個內置系統-一個熱工具和一個壓力/真空資產。該熱模型旨在確保在暴露過程中的完全熱均勻性，而壓力/真空設備則提供精確的接觸壓力和精確的真空控制。該系統還具有特定於應用程序的軟件套件,該套件具有強大的、易於使用的自定義腳本編程語言。EV GROUP 620蒙版對準器是一種通用、高效的精密光刻設備。它提供了高級功能,如自動對準控制、溫度控制和平滑的舞臺移動。它具有廣泛的曝光精度,確保了接觸和非接觸成像過程的高精度。