二手 EVG / EV GROUP 6200 #9296383 待售
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已售出
ID: 9296383
晶圓大小: 8"
優質的: 2006
Automated mask aligner, 8"
Mask holder square, 9"
Wafer chuck, 8"
Double-sided / Backside alignment capability
Manual load
Motorized illuminator: 1000 W lamp (joystick)
Manual XYZ stage (coarse and fine adjustments)
PC
Lamp
Mirror
2006 vintage.
EVG/EV GROUP 6200是一種蒙版對齊器,旨在方便晶圓級光刻。這種精密工具用於半導體工業的光掩模制造和其他相關工藝。EVG 6200采用最先進的高分辨率光學成像設備和新穎的對準算法,能夠在晶圓上產生高精度圖樣。該裝置配有一個6英寸(152.4毫米)的工作站,支持一系列尺寸可達12英寸(304.8毫米)的晶片。它具有獨特的光學設計,標稱分辨率為0.6微米,允許更高的對準精度。根據使用的模式,刀具的對準精度可以達到± 0.01微米的公差。EV GROUP 6200的最大自動對準速度達到3200微米/秒,提供可靠、快速的對準過程。這將提高生產效率,同時仍能取得預期的效果。6200采用高度模塊化的平臺設計,允許開放的體系結構環境。這使用戶能夠使用自己的旋轉、索引和晶圓處理組件自定義系統。這種定制進一步增強了單位在專門任務中表現出色的能力。在操作方面,機器配備了直觀的圖形用戶界面(GUI),用戶可以快速完成從晶圓放置到對齊和後對齊操作的各種過程。GUI顯示了一個全面的流程流程圖,使用戶可以輕松地監視流程。該工具提供各種支持,包括薄膜框架支持、晶片框架支持和金屬框架支持。金屬框架支撐的設計是為了防止在裝載和卸載基板時發生滑動,為掩模對準器提供一個穩定和安全的環境。總體而言,EVG/EV GROUP 6200是一款精密的掩碼對齊器,能夠提供卓越的精度和精確的結果。其尖端技術、模塊化平臺和用戶友好界面確保用戶能夠以安全可靠的方式快速有效地完成高精度流程。
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