二手 EVG / EV GROUP 6200TBR #9028178 待售
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已售出
ID: 9028178
Double sided mask aligner
Topside and bottomside microscopes
Auto load with (3) cassette stations
Cognex Patmax vision system with auto alignment capability
Nanoalign package
Standard and high bow chucks
6" wafer chuck vacuum contact
6" wafer chuck for warped wafers plus proximity pins
8" wafer chuck vacuum contact
8" wafer chuck for warped wafers with proximity pins
Mask holders and loading frames for 7" masks
Mask holders and loading frames for 9" masks
UV meter
Currently installed.
EVG/EV GROUP 6200TBR是一種掩模對準設備,設計用於精確對準基板和掩模,以準備後續的光刻工藝。它有助於叠加對齊精度以及步進和重復步進對齊,使其成為晶片級和面板級成像的理想選擇。EVG 6200TBR提供先進的光刻功能,非常適合制造符合標準的光學設備。該系統支持5倍、10倍和20倍放大倍率的光阻。它還包括一個內置的低溫級和4 μ m的分辨率,用於在晶圓級對齊特征。EV GROUP 6200TBR具有高精度的機動化級,可實現晶圓級對準任務的最佳精度。該單元的用戶友好型設計使其易於使用,而其自檢機器則確保了可靠的性能。它配備了6.5英寸液晶顯示器和智能、自動化的功能,便於圖像檢查。此外,6200TBR還提供集成的光束對準、晶片加載、自動聚焦和曝光控制功能,以及先進的掃描技術,以確保可靠的成像。EVG/EV GROUP 6200TBR的設計考慮到安全性,其特點是板載安全工具可防止基板過度暴露於輻射。該資產還確保輻射在整個給定的光刻操作過程中保持在安全水平。此外,EVG 6200TBR還有一個可選的集成平臺,允許用戶確保汙染預防和環境控制。EV GROUP 6200TBR是一種靈活可靠的口罩對準選擇.它提供高級功能、準確性、安全性和易用性。通過利用先進的成像技術,6200TBR確保所有處理步驟都正確對齊,以產生最佳的照片照片效果。
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