二手 EVG / EV GROUP 620TBR #9207968 待售
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ID: 9207968
晶圓大小: 6"
優質的: 2002
Automated mask aligner, 6"
Topside alignment (TSA)
Bottom side alignment (BSA)
Automatic alignment
(3) Cassette station ergo load cassette station
Cassette to cassette handling (can also be operated in manual mode)
Up to 6" wafer capable
Can be operated in proximity, soft contact, hard contact / Vacuum contact exposure modes
Exposure optics: Type C, 350 nm - 450 nm, broadband
Lamphouse: 500 W
Motorized alignment stage (x, y, theta directions) to the 3-Axis joystick
Microsoft windows based user interface
System PC, keyboard, cables
Operations manual for EVG 620
2002 vintage.
EVG/EV GROUP 620TBR Mask Aligner是一種高級設備,專為高分辨率的mask對齊和陣列設計。它是一種基於晶片的全自動設備，在簡化復雜模式生成過程的同時提供精確度和準確性。EVG 620TBR在整個晶圓區域內提供非常高的對準精度，循環時間從秒到分鐘不等。該機還能夠產生高分辨率圖樣的高產效果。EV GROUP 620TBR配備了先進的技術，使用戶能夠將不同的模式準確定位和曝光到單個晶圓上。它有一個高分辨率的光學對準系統和一個蒸發曝光單元，它使用掃描透鏡來調整投射到晶圓上的圖樣的大小和形狀。620TBR設計用於處理多種基材類型,包括工業膜、偏振器元件、X射線掩模元件和其他薄膜材料。該機還能夠以高精度自動將多個基板彼此對齊。EVG/EV GROUP 620TBR利用高級控制機器提供用戶定義的對齊參數並提供對齊結果的反饋。可以使用工具的基於軟件的數據存儲資產單獨監控每個晶圓。機器還允許用戶設置批處理，這使得多個晶片的陣列具有一致的結果和減少的時間需求。EVG 620TBR具有許多安全功能,例如鎖定晶片夾的能力和緊急停止按鈕,用戶可以在緊急情況下快速停止任何操作。此外，該裝置還配備了一系列安全傳感器，可主動監測環境，確保避免任何危險情況。EV GROUP 620TBR Mask Aligner是各種應用的理想工具，從納米光刻到微電子。除了精度和速度外，其人性化的界面和安全特性使這臺機器成為商業、工業和學術研究的高效可靠的選擇。
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