二手 EVG / EV GROUP 640 #293689618 待售
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EVG/EV GROUP 640是為微米和亞微米半導體結構精密印刷而設計的掩模對齊器。它是一種光學光刻工具，用於將圖樣從標線轉移到晶圓上。對於諸如DRAM、邏輯和混合信號設計等復雜結構,它非常適合打印深亞微米（DSM）功能。EVG 640是一種全場對齊器，分辨率為0.5 μ m，覆蓋精度為0.25 μ m。刀具的全局覆蓋範圍為+/2 μ m,局部覆蓋範圍為+/1 μ m。EV GROUP 640采用自上而下的投影設備設計，賦予其廣泛的特性和功能。該工具可以在4倍、5倍或6倍激光還原時打印1層至30層的標線。其激光光斑大小為0.3 μ m，磁場大小為16 「× 16」，晶圓大小為14 「× 14」。該工具還同時配備了Micro@@-Wall和White@@-Wall成像技術，在整個晶圓上提供高度的聚焦均勻性。此外,該工具的系統配置具有高度的靈活性。可以對其進行校準,以確保較高的流程可重復性和可重復性,並針對不同的需求提供各種曝光選項。640易於操作維護。它具有智能操作員界面顯示功能，允許用戶監控設備性能並設置參數和調整曝光。該工具還設計了一系列安全功能，以盡量減少接觸危險和減少汙染的可能性。總體而言，EVG/EV GROUP 640是一種先進的光學光刻工具，提供微米和亞微米結構的精密印刷。它非常適合DRAM、邏輯和混合信號設計,在機器配置方面具有極大的靈活性。該工具易於操作和維護,並具有一系列安全功能,以確保質量和準確性。
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