二手 EVG / EV GROUP 640 #9200558 待售
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ID: 9200558
Spare parts
Robot controller
Mercury lamp power supply
Shutter
Fly eye
Mirror
Lithography robot 2 (1 belongs to the 2nd machine, a spare part)
Photo lithograph bottom microscope
Mask holder
Lithography mirror and board
Pneumatic bar
Image acquisition
Control module
Cable.
EVG/EV GROUP 640是一種先進的用於微電子制造技術的掩模對準器。它用於光刻工藝，如在半導體晶片和玻璃基板上暴露接觸細節和其他圖樣。EVG 640適合於對準和暴露多種基材，並有不同的分辨率要求。它是多功能的，既可以執行減法和加法過程，也可以執行多步處理。EV GROUP 640可實現低至0.12 µm的分辨率精度，非常適合生產小型半導體芯片，如DRAM和SRAM。它還可以高精度地暴露大面積。這使得對齊器非常適合各種尺寸和形狀，包括不同尺寸和精確圖案的顛簸和通風。其均勻的對齊、曝光質量和長壽命使其在生產運行中具有很高的可靠性。對齊器包括一個自動、集成的對齊系統，使用模式識別技術來捕捉暴露的模式。對準系統結合了先進的引導定位技術和各種不同的梁偏轉技術，提供精確一致的對準。透明的基板支架還可以使復雜的地形對準先進的工藝。640以低成本提供最大吞吐量。快速曝光和易於使用的軟件簡化了操作,使用戶能夠專註於開發和優化其產品設計。它還提供了一個用於定制的模塊化平臺，可以針對特定應用進行定制。此外，EVG/EV GROUP 640配備了一系列先進的安全特性。這包括一個先進的安全系統,可防止未經授權的訪問和篡改,以及監視和控制功能,提供有關不當操作和潛在不安全情況的及時警告和警報。總體而言，EVG 640是一款功能強大且用途廣泛的口罩對齊器，適合廣泛的生產需求。它提供高精度、剛性可重復性和堅固的安全特性,使其成為尋求可靠和高效光刻工藝的用戶的理想選擇。
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