二手 EVG / EV GROUP 640 #9210352 待售

EVG/EV GROUP 640是一種掩模對準器，是一種廣泛使用的用於制造各種半導體器件和先進光子器件的高精度光刻設備。經過優化，為生產和半導體器件制造提供了高模型保真度、高通量和精確對準。該系統采用5納米分辨率對準和5納米步長，並采用感應基板位移的反饋單元和精細運動階段進一步改進，以提供精確的對準精度和可重復性。該機具有先進的計量能力，提供了改進的工藝性能，這意味著芯片設計者能夠最大限度地提高芯片性能。該工具允許廣泛的芯片尺寸和封裝配置，以及各種各樣的對準目標，如接觸、交錯、堆叠和多晶圓技術。此外,資產還可以處理非平面形狀,如圓形、橢圓形和其他形狀,以及經典的「U」（垂直側壁）形狀。EVG 640的曝光時間比其他傳統光刻系統快，通常只需要10至20毫秒。該模型可以檢測到亞納米失真，並能夠實現高分辨率和對準精度。設備的光學元件也被設計成在減少幽靈成像的同時最大限度地減少耀斑。該系統配備了提供快速基板載荷的快速載荷對準級，並包括了長壽命投影鏡頭。該單元還包括一個高度先進的軟件包和一個功能強大的圖形用戶界面（GUI），便於機器的設置和控制。此GUI易於使用,並提供了許多功能,例如自動優化曝光設置和自動對焦校準。該軟件包還提供了廣泛的精確模式模擬功能。EV GROUP 640是先進光刻應用在研發和生產中的理想選擇。憑借其穩健的設計、優異的性能、高品質的成績，多次入圍各項大獎。