二手 EVG / EV GROUP EV 640 #9287503 待售

EVG（EV GROUP）EVG/EV GROUP EV 640是一款設計用於半導體工業的高度先進的掩模對齊器。該設備非常適合光掩碼對準、晶圓沈降、處理參數設置和對準精度。具有高精度XY Ω定位系統，可重復性為+/-7.5 μ m，非線性為+/-10 μ m。舞臺由最大速度0.18 m/min的線性驅動器驅動。實現了高精度的位置重復性和穩定性,以及低熱漂移.EVG EV 640配備了高分辨率晶圓對準系統和集成激光計量單元。晶圓對準機提供高度精確的對準，偏移誤差為30 nm，使用集成激光束的精度高達10 nm。激光計量工具的自動掃描模式和功率優化確保高吞吐量和精度.此外，EV GROUP EV 640具有ST Marks、優化數碼相機以及獲得專利的M2M（口罩到口罩）技術，用於精確對準。EV 640設計用於高精度光掩模對準，並配有真空門和軟件控制的疏散程度。利用其光學測量相機和ST標記,確保了掩模特征的準確和可重復的定位。高精度步進電機確保了口罩的精確對準，集成TDC-5電機控制器提供了對電機運行的精確控制。EVG/EV GROUP EV 640適用於後端光刻應用，如MEMS和通孔光刻。資產包括廣泛的軟件功能，如自動晶片裝卸、智能晶片映射和對齊跟蹤，以確保快速準確的對齊。它還與大批量生產的全自動批量處理和跟蹤兼容。總體而言,EVG EV 640掩模對準器是為高級光刻應用而設計的強大而精確的平臺。高精度和可重復性使其成為最苛刻的生產環境的理想選擇。EV GROUP EV 640具有集成的系統和強大的軟件,是任何半導體實驗室或生產設施的重要工具。