二手 EVG / EV GROUP IQ Aligner #293735310 待售
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ID: 293735310
晶圓大小: 6"-8"
優質的: 2007
Mask aligner, 6"-8"
Maximum separation: 300 µm
Thickness:
Mask aligner: 0.1 - 10 mm
Bond aligner: 0.1 - 3 mm
Alignment:
X,Y Range +/- 5 mm
Rotation: Theta +/- 3.5°
3-Axis joystick
Resolution: 0.06 µm
Mask aligner: 0.5 µm
Bond aligner: 0.5 µm
Exposure modes:
Hard contact
Soft contact
Vacuum contact
Vacuum + Hard contact
Proximity
Microscope objective range:
Top side:
X: 30 - 130 mm
Y: +/- 65 mm - 150 mm
Z: +/- 3 mm
Bottom side:
X: 30 - 100 mm
Y: +/- 12 mm
Z: +/- 5 mm
Monitor / Camera:
Power supply: 350 -500 W
2007 vintage.
EVG/EV GROUP IQ Aligner是為高精度和高通量半導體光刻應用而設計的尖端掩模對準設備。這款先進的工具采用了最先進的對齊和曝光技術,能夠以卓越的控制和可重復性對各種基板上的特征進行精確的陣列設計。EVG IQ Aligner的主要特點之一是其先進的對齊能力。該系統采用高分辨率對準相機和顯微鏡，實現了掩模和基板的精確對準。這樣可以確保圖樣以最小的覆蓋誤差精確地傳遞到基板上。對齊過程完全自動化，減少了人工幹預的需要，提高了光刻過程的整體效率。EV GROUP IQ Aligner還提供了一系列曝光模式，以適應不同的光刻要求。該單元支持接近、軟、硬、真空接觸曝光模式，允許用戶根據自己的特定應用需求選擇最合適的曝光技術。這些曝光模式使機器能夠處理廣泛的基板，包括矽片、玻璃基板和柔性基板，使其成為各種半導體制造工藝的通用解決方案。IQ Aligner除了具有先進的對齊和曝光功能外,還配備了多項創新功能,旨在增強流程靈活性和控制能力。該工具包括自動晶片處理和加載功能，以及軟件控制的曝光參數，以便於對光刻工藝進行定制。其直觀的用戶界面允許操作員實時監控和調整流程參數，確保最佳性能和可重復性。此外,EVG/EV GROUP IQ Aligner設計用於高通量生產環境,具有快速的曝光時間和高效的基板處理機制。該資產能夠以高分辨率和均勻性對大面積的基板進行成型，非常適合半導體器件的批量生產。即使在苛刻的制造環境中,其堅固的結構和高質量的元件也能確保長期的可靠性和穩定性。總體而言,EVG IQ Aligner代表了用於半導體光刻應用的最先進的解決方案,提供了無與倫比的精度、可靠性和靈活性。其先進的對齊和曝光技術,加上工藝控制和自動化的創新功能,使其成為尋求以卓越的生產效率和效率實現高質量陣列設計結果的半導體制造商的寶貴工具。EV GROUP IQ Aligner憑借其卓越的性能和先進的功能,有望成為業界領先的半導體光刻工藝選擇。
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