二手JEC / JAPAN ENGINEERING COMPANY(光罩對準曝光系統)待售

由JEC（日本工程公司）製造的掩模對準器，以其在半導體光刻領域的高品質和可靠性能而聞名。這些掩模對準器利用先進的技術和精密的工程，將光刻膠精確對準並暴露在晶片上，從而為微芯片生產提供精確的圖樣。與競爭對手相比,JEC掩模對齊器具有多種優勢。首先，它們提供了極好的對齊精度，能夠創建復雜的高分辨率模式。它們還提供了亞微米對齊方面的靈活性,允許跨各個行業的通用應用。JEC的面罩對齊器系列的一個例子是MA-2400，它是為研發目的而設計的。該型號提供卓越的光學分辨率和對準精度,適用於小型制造和原型設計。它提供自動對準和曝光功能，簡化光刻工藝，提高效率。JEC的另一個值得註意的口罩對齊器是MA-6，這是教育機構和小規模生產線的理想的緊湊且價格合理的模型。它提供了簡單的操作和維護，使它適合初學者或那些有限的光刻經驗。盡管MA-6尺寸小巧,但仍能提供可靠的對準精度和分辨率。總體而言,JEC掩模對齊器提供了多種選項來滿足各種光刻要求。它們提供高性能功能和用戶友好的界面,使其適合半導體制造領域經驗豐富的專業人員和初學者。