二手 KARL SUSS / MICROTEC 260MS022 #9316168 待售

ID: 9316168
晶圓大小: 6"
Mask aligner, 6" Lithograph exposure.
KARL SUSS/MICROTEC 260MS022 Mask Aligner是一種強大而精確的光刻設備,用於厚抗蝕劑和多層應用。它是市場上最先進的掩模對齊器之一,具有獨特的功能組合:高吞吐量、優化的光學元件(準確性和速度)、高質量的圖像分辨率以及可靠的自動化(高效和用戶友好的操作和維護)。MICROTEC 260MS022使用雙軸鑄鐵閉環系統,沿著X和Y軸精確移動標線和基板支架,並精確聚焦標線和基板。兩軸鑄鐵設計有助於提高穩定性和減小振動,提供卓越的對準精度。對準器還配備了12 µm垂直長距離位移和內置的3D輪廓儀,用於測量和驗證暴露後的抗蝕劑輪廓。對齊器由一個先進的軟件平臺提供動力,提供用戶友好的操作和維護所需的所有功能。它包括強大的跟蹤、對準和檢查功能,可自動提供精確的結果。此外,它還提供實時監控、調整功能以微調對齊過程,以及用戶友好的圖形用戶界面,用於控制和組織工作流。KARL SUSS 260MS022能夠以125 µm/s的速度達到非常精確的± 2 µm的對準精度。設備的放大倍率範圍為0.75X至12.5倍,分辨率為3lp/cm至200lp/cm。對齊器能夠在吞吐量為25至40晶圓/小時的單面或雙面基板上提供2 「x 2」至8 「x 8」全場處理。Mask Aligner還配備了光源和亮場照明,以增強控制和精度。這些特性加上高質量的光學和精密工程,使260MS022能夠提供卓越的性能、準確性、可靠性和成本效益。這種綜合設備旨在滿足大批量生產環境的需求,是PCB、MEMS和半導體行業光刻應用的理想選擇。
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