二手 KARL SUSS / MICROTEC BA 6 #9363766 待售

KARL SUSS/MICROTEC BA 6是一種用於半導體產品制造中光刻的前沿掩模對齊器。這種對齊器是一種小巧、尺寸高效的光刻儀器，適用於較小和復雜的芯片布局工藝或更高分辨率的晶圓制造工藝。掩模對準器的工作原理是，首先將晶片布局的大小設置為暴露，然後將精磨的石英玻璃抗性材料施加到晶片表面。然後將石英玻璃抗蝕劑暴露在波長為193nm的0.2微米的紫外線通帶中，同時將掩模移近芯片表面。然後，掩模對準器利用其先進的定位和光束偏轉系統在芯片上移動掩模。利用穩定的激光控制器和高分辨率的直線電動機使掩模的精確定位成為可能，而光束偏轉確保紫外線在芯片布局的所有區域的均勻應用。MICROTEC BA 6對齊器還提供高達1.0um的高曝光精度,由於對芯片布局結構的大小提供了控制,因此可以實現更高的層對齊精度。這種對齊器還能夠掃描高達1000Hz的頻率，這使得它適用於高通量制造掩模。此外，它還配備了電動變焦光學器件和瑞利激光幹涉儀，以提高曝光精度。KARL SUSS BA 6還包含了一系列旨在促進生產過程的高級功能。這些功能包括基於PLC的自動化作業表、六軸對齊系統以及用於完成層的壓花功能。此外,此對齊器還配有一個功能強大的計算機軟件程序,該程序提供對芯片布局的詳細分析,然後由技術人員使用,以方便整個布局和對齊過程。總體而言，BA 6掩模對齊器是一種用於半導體芯片生產的最先進的光刻工具。它將高端定位和紫外線曝光功能與許多高級功能結合在一起，以便於高效、準確地生產半導體器件。高精度的光束偏轉也允許芯片布局的精確對準，而其高通量的1000Hz使其適合商業使用。