二手 KARL SUSS / MICROTEC BA 8 #9382268 待售

KARL SUSS/MICROTEC BA 8是一種用於半導體器件制造的自動、高精度、用戶友好的掩模對齊器。它針對各種光刻應用進行了優化，如薄膜的精確圖樣、抗掩蔽和晶片圖樣。MICROTEC BA 8具有先進的功能和高效的工作模式,為快速、精確的光刻處理提供了理想的平臺。KARL SUSS BA 8由多個部件組成，包括6軸對準頭、自動晶片/掩模分級機構、晶片到掩模對準設備，以及包含10 X變焦鏡頭的高分辨率成像系統、減少陰影和最小化邊緣偽影的同軸照明，以及內置具有用戶友好圖形界面的自動可編程控制單元。這些組件以最佳方式集成到較小的占用空間中,以節省時間並提供更高分辨率的結果。BA 8的對準頭設計成能夠高精度地固定和移動晶片和掩模。晶片/掩模級由兩臺無機械電動機組成,它們與精密編碼器和行進級耦合,以確保在x和y方向上精確、可重復、單點對準。此外,精密索引器為多曝光對齊過程提供了可重復的掩碼運動。KARL SUSS/MICROTEC BA 8的晶片到掩模對準機結合了照明、成像和光學位移技術來精確定位晶片和掩模。這提供了一個高效、準確的對準過程，減少塗層誤差和其他缺陷，所有這些都在一個自動低溫操作。而且，蒙版卡盤還配備了高分辨率的基準識別軟件，以進一步減少錯位。最後,MICROTEC BA 8的成像工具提供了較小特征尺寸的卓越分辨率.10倍光學變焦資產允許高精度圖樣，而其同軸光源消除陰影，確保更均勻暴露的抵抗。另外，這種光學模型是內置的，使晶片與掩模基對齊，以減少臨界尺寸的變化。總體而言,KARL SUSS BA 8掩碼對齊器提供了制造大型系統所需的高分辨率陣列,並具有精確、高效和可重復性。BA 8以其優越的特性和能力，是經濟實惠的光刻加工的完美選擇。