二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #293670040 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E是一種高精度的掩模對準器，設計用於半導體光刻應用的光掩模或標線的精確對準。MICROTEC MA100E能夠為15 nm或更高的設備幾何形狀提供單曝光和多曝光服務,並且可以對100 nm以下的特征進行成像。設備由光學臺、精細校準運動系統、光源、對準精度檢測器、晶片級和晶片架組成。光源可以設置為紫外線、可見光或紅外光，並提供晶圓的均勻、高分辨率照明。運動單元的設計旨在最大限度地減少與空間平移相關的像差和誤差,從而實現對齊精度。機器具有高精度移動到選定對齊點的能力，晶圓可以快速安全地裝卸。KARL SUSS MA 100 E還配有一個自動準直器照相機，以提供單個光掩模特征的精確對準，以及一個CCD照相機，用於檢查、觀察和測量有圖樣的晶片。此外，還包括一個溫度控制顯微鏡物鏡，可用於檢查晶圓上的個別特征特征。利用先進的實時糾錯工具，MICROTEC MA 100 E在整個打印過程中具有較高的定位精度。該資產還具有8位Gray Code平臺,該平臺結合了自動對焦、啟動校準、實時圖像服務和自動曝光,可實現最高精度。為了更精確的調整，有一個精細的調整輪來設置印記的精確模式。MICROTEC MA 100E用途廣泛,可用於多種應用,包括為晶圓制造創建陣列層。該模型能夠印記10nm的高分辨率線寬,而不會產生任何失真或像素化。此外,MA 100E可用於原型制作和基於原型的生產。它具有深度預掃描和成像設備,用於對圖樣化晶片進行表面檢查,並且該設計允許安裝各種成像、檢測和圖樣測量設備。總體而言,KARL SUSS MA 100E掩模對齊器為廣泛的生產應用提供了可靠而精確的光刻工藝。它提供了很高的配準精度，加上晶片的快速裝卸和視覺檢查設施。KARL SUSS/MICROTEC MA100E是一個簡單、直觀的系統,它允許精確的模式對齊和精確成像到10 nm線寬的特征,而不會產生任何像素化或失真。