二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 150 M/BSA #9268269 待售
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ID: 9268269
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 1996
Mask aligner
UV 400 Exposure optics
Light intensity sensor: 320/405 nm
W-100 / W-150 Mask holder
Topside microscope:
Type: DVM 6
Objectives: NPL 5x / L 25x
Bottom side microscope:
Magnifications: 110 / 330
Resolution: 2.4 µm
Proximity, 4"
Ball diameter: 2000 µm, 1998 µm, 1998 µm
Exposure illumination:
Area, 6"
Lamp: 1000 Watt
Position:
Fly eye: 5 mm
Condenser: 38 mm
Lens plate 1: 69 mm
Lens plate 2: 90 mm
1996 vintage.
MICROTEC MA 150 M/BSA是一種用於制造工程微結構的掩模對齊器（MA）。這種先進的技術用於將薄膜掩模圖案與半導體晶片的器件表面對齊，精度極高。MA 150設計具有先進的功能,可生產高質量、可靠且分辨率非常好的產品。MA 150利用獲得專利的二進制光學設備來對齊具有2 µm以下特征的掩模。口罩可以在任何方向對齊，精度為1 µm。面罩通過真空保持在適當的位置,並且很容易與半自動精密級對齊。該系統還包括一個自動進紙器，能夠每秒向對齊階段輸送多達2個晶圓。KARL SUSS MA 150可用於光掩模對準、曝光、開發、清潔和後處理步驟等光刻工藝。它采用高分辨率優化的二進制光學單元，數值孔徑大於0.45。通過使用每次曝光前安裝在兩個方向上的位移測量傳感器，提高了位置精度。MA 150還配備了集成的直視顯微鏡。這允許運算符可視化應用程序表面上的陣列以及對齊精度。使用先進的光學設計使該功能成為可能,該設計允許在不失真的情況下看到圖像。KARL SUSS/MICROTEC MA 150 M/BSA是光刻的可靠準確的解決方案，可以幫助確保高質量的微結構的生產。這臺機器的先進特性和設計允許精確的掩模對準和改進的位置精度，而直視顯微鏡提供了額外的控制和監控能力。這使得MA 150 M/BSA成為那些希望生產具有卓越可重復性的高可靠性產品的人的理想選擇。
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