二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 CC #293806364 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 200 CC是一種用於光刻工藝的掩模對齊器。它旨在為晶片定位在具有精確X-Y-Z移動能力的舞臺上提供高精度的光學對準。該設備允許需要非常高精度的應用，如半導體加工、光學塗層、液晶、LED、MEMS和薄膜沈積。MICROTEC MA 200CC包括一個198毫米的有效場直徑和7.9 μ米的可重復性，以及一個可達175毫米的孔徑。它配備了對準顯微鏡設備，確保晶片精確的光學對準。此外，顯微鏡還包括一個激光系統，用於精確定位面膜上的圖樣與晶片。所有對齊函數均由基於微處理器的單元控制。KARL SUSS MA-200 CC一次最多支持三個口罩。其高精度X-Y光學對準機提供了更高的吞吐量：場大小為20 x 20 mm ² 150 x 150 mm ²。KARL SUSS MA 200CC還有助於快速改變模式以產生精細模式電路。此外，獲得專利的自動化工具能夠實現顯微鏡的自動導航，消除手動對準，並提供可重復性和準確性。MICROTEC MA-200 CC還配備了自動清潔設備以減少劃痕和殘留物。它包括一個先進的基板處理模型，具有可調的吸力和提升機構。對準器還設計為與石英、玻璃、環氧樹脂等各種面膜材料兼容。MA-200 CC是一種通用的高精度掩模對齊器,可為需要高精度的應用程序提供出色的控制。它提供了卓越的重復性和精確對準，以及清潔設備，減少劃痕和殘留。它是半導體加工、光學塗層、液晶、LED、MEMS、薄膜沈積等多種應用的絕佳選擇。