二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 CC #9173378 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9173378
晶圓大小: 8"
Automatic mask aligner, 8"
Wafer type: Notch
Capable of working with wafer masks up to 9"x9"
Configured for top side alignment
Ergonomic cassette plateforms
1000 W Lamp house
Lamp power supply unit CIC1000 LH1000
UV400 Optic (For 365 nm and 405 nm)
Lamp adapter LH1000 / HBO MA8 / MA200
2 Channels light sensor 365 / 405 nm
AL3000 Auto alignment system
DVM8 Microscope
With motorized objective movement with field expanders
Objective 20x
OLYMPUS UMPL FL 20x
Working distance: 12 mm
XRS Pre aligner
Large clear field proximity mask holder for 9" corner marks
With 8" exposure area
8" Proximity chuck.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 CC是一種主要用於研究和開發電子電路和光掩模生產的掩模對準器。該單元提供高分辨率的精密對準，容量可達200毫米晶圓，可變基極放大倍率範圍介於10X和60X之間。它還可以適應光刻膠在高達200毫米晶片上的應用，並允許調整各種抗蝕劑類型的曝光設置。該設備利用步進電機和光學傳感器進行精確的對準和聚焦控制，為直接寫入應用提供可靠和可重復的結果。它具有基準識別和定心系統,精度為+/-0.10 mm。設備中的照相機可以以最小的反射率檢測晶圓對準標記。此外,它還具有自動聚焦機制,以確保曝光時的最高精度。MICROTEC MA 200CC還具有自動晶圓識別、高級過程控制以及允許優化曝光參數的算法。它能夠使用石英、鉻和鋁的光掩模，以及各種各樣的光敏材料來設計透明層。該裝置可加工環氧樹脂、PDMS、SiO2、Si3N4、聚酰亞胺等多種材料，以及Ni、Ti、Au、Pd、Cr. KARL SUSS MA-200 CC等一系列先進材料，非常適合包括電子電路、光乳膠、光刻膠等研發應用。它旨在提供最高級別的準確性、精確度和可重復性,確保可靠且可重復的結果。它也易於使用，並且允許各種材料被圖案化。該設備對於電子電路和光掩模生產的開發者來說是一個非常寶貴的工具，提供了經濟高效和高精度的結果。
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