二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 Compact #9391681 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 200 Compact是一款先進的用於處理微電子產品和設備的掩模對準設備。它是一個多用戶系統,能夠實現0.30 μ m功能大小的高分辨率。它是一個可靠、用戶友好的單元,可提供經濟高效的光刻解決方案以及快速的掩模交換時間。MICROTEC MA 200 Compact是一款高級掩模對齊器，專門研究高精度光刻技術。這種精密的機器提供完美的表面重叠和橫向配準精度高達± 0.1 μ米.它還提供了多種對齊模式，例如使用激光技術直接書寫和矩陣配準，即使用預先放置有參考標記的蒙版，這些標記被成像到基板上並用於對齊。KARL SUSS MA-200 COMPACT還提供高達300 nm的微對比度成像。這個工具能夠處理各種工作，從大型基材和產品到小型晶片。基板支架允許將基板放置在不同的方向，便於各種產品的精確對準。該資產可以處理厚度從0.1到8毫米的晶圓，並具有高分辨率的自動對焦功能，以確保可重復對準。此外,該設備還具有先進的自動化功能,能夠處理直徑從6英寸到8英寸不等的晶圓或基板。其靈活的光學設計在所有焦距上都提供出色的成像性能。它還具有200毫米透鏡,可實現更大的光學聚焦深度。MICROTEC MA-200 COMPACT的輸入輸出分級配備了兩個掩模鼓處理程序，可以帶來高效的機器人掩模交換。KARL SUSS/MICROTEC MA-200 COMPACT面罩對準器配備了暗室和晶圓廠操作的標準安全功能。它旨在確保操作員和設備的保護，它還具有幾種自我診斷功能和可以檢測故障的安全聯鎖裝置。該型號還配備了最新版本的MA Enterprise軟件包。這個最先進的軟件提供了強大的功能,例如自動優化、控制圖表、泄漏分析以及許多其他簡化光刻工藝的工具。此外,它還具有內置設備控制功能,允許用戶遠程控制系統並監控有價值的設備和產品信息。MA-200 COMPACT提供先進的光刻解決方案,配備精確的設備、可靠的操作和經濟高效的解決方案。