二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9238413 待售
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ID: 9238413
晶圓大小: 8"
優質的: 1989
Mask aligner, 8"
Proximity mode
Special cassette loader / Unloader
XRS PAL And top side alignment
CIC1000 Lamp power supply
DVM8 Field expander
AL3000 Auto align
Lamp: 1000 Watts
LEITZ: 25x
Mask, 9"
UV400
LH1000
1989 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200是一款用途廣泛且精密工程的掩模對齊器。它提供了具有高均勻性和可重復性的晶片和掩模的精確和可重復對齊。這種裝置允許將直徑達200毫米的基板精確對準直徑達880毫米的口罩。MICROTEC MA200設計用於生產光刻。它具有簡單、用戶友好的界面,使用戶能夠快速編程所需的對齊和曝光參數。控制機器的軟件功能強大,易於理解.它還提供存儲程序的能力、照明設備的自動調整以及微調操作助手等高級功能。KARL SUSS MA-200采用了一系列先進的精密光學和電子設備,以確保半導體晶片和其他基板的精密對準和曝光。該光學器件采用銅-蒸氣激光束和步進電機驅動的透鏡系統來提供精確的對準。機動化晶片與掩模對準單元的精度高達30納米,可確保基板與掩模的可重復、精確對準。光學器件還能夠橫向、高度和橫向傾斜校正,以及非接觸晶片到掩模輪廓匹配。MA-200還配備了自動面罩處理機,用於晶圓到面罩交換和大型鏡頭的處理。晶片到掩碼的交換是使用電梯工具進行的,真空資產精確地保存和釋放晶片和掩碼。先進的光學元件生活在溫度和濕度控制的環境中,確保了對光刻工藝的最大保護。KARL SUSS MA200為生產掩模實踐提供了一種高效、經濟高效的解決方案,確保晶片基板的精確對準和曝光速度高達每小時16個晶片。這使得該模型非常適合大批量生產應用。
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