二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9373260 待售

ID: 9373260
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
Mask aligner, 8" Topside alignment Cassette to cassette Field proximity mask holder for corner masks, 9" With exposure area, 8" Vacuum chuck: Thermal proximity chuck, 8" Mask holder: 9" x 9" LH5000 Lamp house: 5000 Watts KARL SUSS CIC 5000 Power supply UV400 Optics (For 365nm and 405 nm exposure) With G-Line filter Objectives: 5x, 10x AL3000 Auto alignment system DVM8 Microscope JULABO Chiller Isolation table User manual 1000 Intensity meter with 365 and 435 nm probes 2000 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200是一種掩模對齊器,用於精確定位,然後將圖樣傳遞到所需的表面,該表面可以包括半導體基板或光掩模。掩模對齊器能夠將特征對齊到0.2微米,並且能夠覆蓋和對齊某些情況下數百微米的特征。這臺機器是非常精確和高效的,允許非常具體和可重復的基板上的特征對齊。機器本身由XY級、用於對準和定位基板和掩模的四軸機械手、最小分辨率0.5微米的亮場和暗場顯微鏡組成。機器包括一個內置的計算機系統,它允許用戶編程對齊點和控制機器。可編程的對齊功能非常精確,允許進行各種對齊操作,如圓形到圓形、矩形到矩形以及圓形到直線。機器還包括激光二極管對準,使用激光為用戶提供面罩和基板精確對準的參考點。MICROTEC MA200的用戶有能力同時控制機器的所有四個軸,並自動或手動調整基板和掩模的位置。用戶也有能力根據基板和設備來調整機器的曝光。KARL SUSS MA-200在半導體工業中被廣泛使用,因為它提供了一種將圖樣轉移到基板上的快速而準確的方法。該機速度快、效率高,使用戶在保持傳輸精度高、精度高的同時,實現了高收益、低周轉時間。此外,激光二極管對準可以在對準掩模和基板時獲得很高的準確度,確保模式的傳遞是精確和可重復的。
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