二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 200E #9227902 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 200E掩模對準器是一種精密晶片對準設備，專為將亞微米設計布局對準和轉移到晶片而設計。MICROTEC MA 200E是一個世界領先的系統,用於廣泛的應用領域,包括半導體生產、光學裝配和MEMS生產,它們需要1um或更小的底物特性。該單元提供接觸和非接觸晶片對準其先進的顯微鏡和高度精確的舞臺運動。KARL SUSS MA-200E配備了高性能的光學機器,包括先進的特性,如1 um的對準分辨率、高達400 mm/秒的增強加速度,以及可與CAD軟件集成的高級顯微鏡工具,以實現高級註冊和測量能力。該資產還具有用於精確晶圓配準的自動大視野圖像捕獲模型。此外，設備還具有集成的對齊功能，包括非接觸晶片邊緣對齊、基於模式的對齊和虛擬對齊。除了晶片對齊之外，KARL SUSS MA 200E還提供了一個高效、準確的亞微米設計布局從項目主頁轉移到晶片的方法。這種高效、精確的傳輸是由真空卡盤系統和傳輸厚度控制光學單元實現的。真空卡盤機通過使用高達84kPa的真空電平，幫助將母體精確放置在晶片上。傳輸厚度控制光學工具可確保傳輸厚度保持在0.01微米±的精度。MA-200E還包括一些自動化功能。這包括全自動對準和傳輸過程控制功能以及用於缺陷檢測的激光模式。自動化的過程控制功能有助於確保準確和可重復的對齊和傳輸結果。此外,激光圖樣還可以自動檢測缺陷,精度高達0.15微米。MA 200E是一種先進的晶片對齊資產，具有先進的功能，非常適合一系列需要高精度的應用。該模型為您的所有對齊和傳輸應用程序提供高性能、自動化和準確性。