二手 KARL SUSS / MICROTEC MA-300+ #156834 待售

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ID: 156834
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Mask aligner, 12" De-installed by OEM Packed/Crated and storaged in warehouse 2004 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA-300+是一種先進的用於半導體器件制造光刻的掩模對齊器。該對準器具有精密光學器件,用於將光掩模高分辨率對準基板。MICROTEC MA-300+配備了基於視覺的自動對準設備,可確保最大的對準精度以及全場晶圓覆蓋範圍。KARL SUSS MA-300+蒙版對準器配備了自動舞臺運動系統、光學單元和蒙版夾緊機。自動舞臺運動工具優化了光刻工藝的質量,而光學資產則允許直接成像和對準。夾緊模型將口罩牢固地固定到位,並在對準過程中保持其定位穩定性。MA-300+光刻設備采用先進的計算機控制曝光框架,可實現最高的精度和效率。該系統能夠處理1.5、5和10微米的掩碼對齊機箱,以及更大格式的掩碼。該機還配備了可調節的孔徑和舞臺高度調節,以及改進的場平整機。這樣可以確保所有晶片都暴露在均勻、高質量的光照下,以保持最高水平的圖像質量和準確性。KARL SUSS/MICROTEC MA-300+對準器具有自動傳感器校準功能,以及用於紫外線、深紫外線和長波長光源的集成濾波工具。它還使圖樣分析能夠優化光刻工藝的精度。MICROTEC MA-300+使用冷卻的垂直石英鹵素燈和可調電源供電。KARL SUSS MA-300+還具有自動流體管理資產,用於在光刻過程中優化彈簧加載的LEPT容器中的流體去除和補充。MA-300+掩模對齊器的占地面積很小,非常適合在狹窄的空間中使用。它易於設置和操作,既適合有經驗的用戶,也適合新手用戶。它還提供高分辨率成像,以確保最高質量的晶片。KARL SUSS/MICROTEC MA-300+是一款可靠高效的掩模對齊器,使其成為半導體器件制造商的熱門選擇。
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