二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 4 Series III BSA #293639816 待售

ID: 293639816
晶圓大小: 4"
Mask aligner, 4" Lamphouse: 1000 Watt Wafer chuck: Configured for 2" Optics: 365nm (NUV) CIC Power supply: CIC 500 constant intensity controller.
KARL SUSS/MICROTEC MA 4 Series III BSA是一款設計用於先進半導體加工應用的高精度掩模對齊器。該裝置具有均勻的表面光學設備和石英面罩空白,最精確和可重復性。它能夠容納200毫米以下的晶片(在特殊順序的基礎上更大),並且可以暴露出厚度達40毫米的基板。MICROTEC MA 4 Series III BSA配備了經過校準的納米級,利用獨特的x-y-triple對準系統來精確控制晶圓或掩模空白的角度和x-y位置。上下四點接觸機構確保光學曝光在整個曝光區域中居中且一致。這種裝置還有一個獨特的氣流單元,利用四個擴散室減少暴露時的空氣湍流和溫度波動,允許更高的暴露劑量,降低片狀阻力和提高產率。此外,該機采用先進的液體和顆粒去除技術,旨在降低汙染風險。這有助於確保質量和準確性,並減少多余的功耗。KARL SUSS MA 4 Series III BSA還有一個高級光學工具,旨在提高對準精度。它具有激光模式的標線,用於高精度的模式識別和雙面曝光的頂部和底部曝光。它還具有四軸曝光能力,並配備了先進的光學濾光片,以提高性能。資產的設計也考慮到了安全性。它配有安全聯鎖,以防止用戶進入危險區域,如操作過程中的曝光室,以及可聽和目視警報,以提醒用戶註意任何潛在的危險或曝光問題。MA 4 Series III BSA旨在為先進的半導體加工提供專家、精確的掩模對準。它具有先進的光學和校準技術,可持續準確地曝光,以及有助於防止汙染的防汙染氣流模型。它還具有安全聯鎖和警報功能,以實現最大程度的安全和保護。
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