二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 45 #9159265 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 45掩模對準器是一種專門的設備，設計用於將分層光掩模精確對準或「暴露」到像晶圓這樣的基板上。對齊器通過先掃描並自動對齊整個晶片來執行,然後再曝光每一個分離的蒙版和蒙版層。通過使用基於激光的自動掃描系統，可以在延長運行期間保持對準精度，而無需重新對準掩模。這使得該單元非常適合工業應用以及研發過程。MICROTEC MA 45掩模對準器由一個固定基板（通常是晶圓）的級和一個放置光掩模的「板」組成。對準器的光學機器安裝在掩模和基板上。要暴露每一層或遮罩,此光學工具將遮罩精確對準晶片。通常以大約一微米的精度執行對準。KARL SUSS MA-45面罩對準器利用明亮的紫外線光源來暴露面罩的每一層。光線通過光掩模投射,然後投射到晶片上。接下來是開發人員的應用程序。顯影劑用於從暴露於紫外線的晶片區域中去除不需要的光刻材料，留下所需的圖像或圖案。掩碼對齊器的資產由幾個模塊組成,這些模塊可以為特定應用程序單獨配置。這些模塊提供步進電機控制、激光檢測、成像、光學對準和晶圓固定功能。掩模可以以批處理模式或一次一個晶片曝光。對準器的光學投影模型由遠心目標和數字圖像分析單元組成。顯微鏡還包括一個二極管陣列和一個接口的CCD相機，允許捕獲掩模圖像，以便測量和確定對準精度。MA-45掩模對準器是一種高度精確的設備，用於對準和暴露分層光掩模到晶片上。它的自動對準力學和照明光學系統允許在一次運行中精確、高效地對準多個掩模,使其成為工業和研究環境的絕佳選擇。該單元的模塊化設計進一步使其能夠適應許多不同的應用。