二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 55 #123195 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 55是一種光刻設備，為光掩模與多種基板的精確對準而設計。它特別適合於微電子、微機械和光電器件的制造。MICROTEC MA 55是一款手動掩模對準器，配有8x8英寸的精密光學表和10倍顯微鏡。它有一個內置的二維（2D）對準系統，用最少的操作員幹預來對準掩模和基板。該裝置旨在為掩模和晶圓定位提供平面和傾斜對準能力。它能夠保持0.4微米的性能±當配對到一個平面。KARL SUSS MA-55提供了一個通用、高精度的光刻平臺。有兩個單獨的控制系統用於掩蔽和晶圓處理。每個都有自己專用的基於Windows的軟件,用於數據輸入和操作。掩碼控制機允許用戶輸入掩碼數據，如位置圖形、掩碼大小和類型，以及叠加和未對齊。晶圓控制工具允許用戶輸入位置圖形、晶圓形狀、晶圓類型等晶圓數據。MICROTEC MA-55提供高分辨率光學器件，包括10倍顯微鏡和5倍顯微鏡，用於放大光刻過程中的對準和觀察。它還包含一個低功耗的500萬像素數碼CCD相機，用於拍照和現場口罩檢查。此外，KARL SUSS/MICROTEC MA-55包含一個內置的空氣軸承滑軌資產，用於精確的掩模對準和晶圓操作。空氣軸承滑軌模型可確保穩定的掩模-晶片對準,從而實現亞微米位置對準精度。MA 55支持多種尺寸可達8 x 8英寸的光掩模和多種晶圓形狀。其曝光燈產生精確、均勻的照明場，強度高達10,000盧克斯，所有的對準和曝光部件都用集成氣體過濾模塊進行真空密封，以防止汙染。MA-55是一種可靠、準確的光刻設備，廣泛應用於各種行業。它通過先進的光學設備、CCD攝像頭和空氣軸承滑軌系統提供高對準精度。內置氣體過濾裝置可確保清潔和無汙染物的暴露，從而獲得一致的結果。憑借其多用途的能力，這款掩模對準器適合用於電子、微電子、光電、微機械設備的原型設計、研究和生產。