二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #119483 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 56是一種為光刻工藝設計的自動掩模對齊器。它使用超精密、基於激光的投影對準設備，以提高光刻過程中將掩模對準晶片基板的精度。MICROTEC MA56設計用於制造高密度半導體器件,包括用於邏輯和內存應用的半導體器件,能夠為器件對準提供亞微米級精度。KARL SUSS MA-56具有多種功能,使其成為各種光掩碼對齊應用程序的絕佳選擇,同時還使用戶能夠自定義其流程。它配備了一個大的8英寸遮罩場，它提供了足夠的空間來容納各種各樣的尺寸和幾何形狀，包括小和大格式的遮罩。另外，KARL SUSS MA56有兩個獨立的投影對齊器，兩者都能提供具有亞微米精度的點上對齊。KARL SUSS/MICROTEC MA-56采用模塊化設計,使用戶能夠根據其特定的生產需求定制系統。它配備了各種各樣的鏡頭選項,每一個都為特定的應用提供了自己的好處,例如分辨率和對焦深度。該單元還具有多種其他可選組件,例如用於多層對準的光束組合器、用於模式組合的掃描儀以及用於使用不同波長激光器對準的各種投影目標。MICROTEC MA-56能夠存儲多達6個掩碼,從而便於在不同的光掩碼組之間快速切換。KARL SUSS/MICROTEC MA56利用晶圓處理機,使晶圓的精確子集能夠精確地定位在持有者上。該工具還配備了自動反射對準功能，可快速補償表面反射率和任何掃描儀誤差。此外,KARL SUSS MA 56還可以通過自動間隙傳感器和真空孔調節等高級選項進行升級,從而提高性能和準確性。除了具有出色的掩模對準能力外，MICROTEC MA 56為各種基板提供了精確的條件。它利用精確的溫度和濕度監測資產，使設備在最優條件下制造。MA 56還配備了先進的安全模型，可以防止設備在化學敏感環境中運行時發生任何與設備運行相關的事故。總體而言，MA-56是高密度半導體器件精確掩模對準的絕佳選擇。它配備了先進的投影對準系統，可以提供亞微米的精度和控制。此外,MA56提供了廣泛的功能和組件,使其能夠根據各種需求進行定制,同時還為各種基板提供了精確的條件。