二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 56 #9124210 待售
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單擊可縮放
ID: 9124210
晶圓大小: 5"
Mask aligner, 5"
Resolution: 3 µm (proximity) 0.8-1µm (vacuum contact)
Capable of hard contact
Soft contact
Proximity exposure modes
350 Watt CIC500 power supply
Splitfield microscope.
KARL SUSS/MICROTEC MA 56是一種用於光刻應用的掩模對齊器。它有一個三軸自動級,允許同時對準口罩和基板,使其適合高精度的應用。該設備體積小巧,重量輕,便於在生產場所和實驗室之間移動。MICROTEC MA56可通過用戶友好的軟件進行編程,該軟件具有直觀的圖形用戶界面(GUI)和帶指南的幫助菜單。GUI允許用戶輕松選擇相關參數並準確設置所需參數集。KARL SUSS MA-56配有兩個攝像頭,一個用於生成視野圖像,另一個用於對準口罩和基板。MA 56具有獲得專利的精確激光系統,該系統可以檢測掩模中的小缺陷,從而實現從單個微觀結構到25 mm的高精度對準和模式集成。它的開放式體系結構允許與生產過程的其他組件(包括掩碼和晶圓處理系統)輕松集成。該單元設計為提供最大圖像質量,具有兩種不同波長範圍的鏡頭;UV和DUV.在紫外線應用中,提供了0.4的NA,用於均勻裝載和卸載直徑不超過150 mm的基板。這些鏡頭還與輔助光學器件兼容,允許放大和提高精度。KARL SUSS/MICROTEC MA56既支持標準薄膜沈積系統,也支持先進的GaAs蝕刻系統,並帶有索引標記讀卡器,以確保掩碼易於定位。它還具有內部軟件控制快門,允許用戶在手動快門模式和自動快門控制之間進行選擇。MICROTEC MA-56的設計可實現非常高精度的對準,最小特征尺寸為0.5 μ m。它還提供了可變周期時間優化算法,允許更快的處理和更高的吞吐量。總體而言,KARL SUSS MA 56是一款用途廣泛、精度高的掩模對準器,甚至適用於要求最苛刻的光刻應用。它提供了卓越的圖像質量、自動化的對齊和高吞吐量的過程,而且用戶幹預最少。
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