二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 6 / BA 6 #9226441 待售

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ID: 9226441
優質的: 2018
Mask aligner Manual alignment stage: Automatic wedge compensation system: Contact / Without contact (Mask and wafer) Alignment gap program: 1 - 1000 Micron 1 Micron resolution Movement range mask aligner mode: X ±10.0 mm, Y ±5.0 mm, Theta ±S" Movement range bond aligner mode: X ±3.0 mm, Y ±3-0 mm, Theta ±3° Machine base with mechanical, pneumatic and electrical equipment Adapter system: Mask holders: Up to 7" x 7" maximum TSA Microscope stage: X, Y Manipulator (Motorized) Manual rotation Wafers / Substrates: Manual loading and unloading Microprocessor control with LCD display Lithography applications Wafers: 2" Up to 150 mm Diameter Substrates: 2" x 2" Up to 6" x 6" Bond application Wafers: 3" Up to 150 mm diameter Operator manual on CD BSA Microscopes with working distance 33 mm Alignment stage: X, Y Theta WEC Head for BSA microscope objective separation in X direction 15 mm to 100 mm Motorized Z axis Bottom side alignment system: Separation in X: 15 mm - 100 mm Travel in Y: - 20 mm to + 50 mm Motorized focus: 6 mm Enhanced Image Storage System (EISS): PC With image and fine focus control M 306 / 8, DVM 6/8 and BSA TFT Flat screen, 17" Integrated trackball S-VGA Resolution: 1280 x 1024 SUSS DVM6 Microscope: (2) CCD Cameras Objective separation: 47 to 140 mm Single objective UMPL FLI Working distance: 20 mm Exposure unit: Wafer / Substrate: 150 mm Exposure lamps: Up to 500 W 2018 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 6/BA 6是一種手動掩模對齊器,用於光掩模和基板的高精度納米光刻圖案。這臺機器被用於涉及微觀特征的設備的批量生產、研究和開發。它是一種自動工具,用於對齊具有10nm精度和步驟可重復性的掩模或基板。MICROTEC MA6/BA6具有極高的精確度和可重復性,非常適合設計光掩模和基板。它是一種先進的光學光刻工具,具有兩個獨立的腔室,即遮罩腔室和基板腔室,以提高準確性和可重復性。掩模室有一個180度擺動門,用於在任何對齊配置中最多裝卸兩個掩模。它具有兩個5位可升級蒙版表,可輕松對齊蒙版蒙版。面具室還提供通過機動XYZ舞臺進行手動或自動平移和旋轉的可能性。基板室有一個180度擺動門,用於在任何對齊配置中最多裝載和卸載四個基板。它還具有一個5位可升級基板表,以便於基板對齊。基板室通過機動XYZ級提供與面罩室相同的手動或自動平移和旋轉。KARL SUSS MA6/ BA6使用先進的照明系統來確保精確的遮罩與基板對準和曝光。它結合了LED和微型鹵素燈照明源,以最佳的強度控制和傳遞均勻性。該系統還為不同的應用程序提供各種對齊模式的選擇,例如全自動、半自動和手動。它還具有軟件控制的運動檢測技術,以確保兩個可用光束源的優越位置精度。MA 6/BA 6是先進光刻應用的絕佳選擇,因為它提供了無與倫比的準確性、可重復性和速度。它是在包括微電子學、MEMS、光電子和磁存儲在內的各個領域擴大研發和批量生產的可靠、成本效益高的工具。
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