二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 6 #9179543 待售
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ID: 9179543
晶圓大小: 6"
優質的: 2003
Mask aligner, 6"
With HITACHI VM-1220U Monitor
Top side alignment
Mask system, 5"
Hg-Xe Vapor lamp
Mid-UV range: 250 nm
2 Channels: 475 W
Capable of processing: 4"-6"
Mask size: Up to 7" x 7" standard
Substrate size: 2" x 2" - 6" x 6"
Exposure optics:
Wave length: UV 400
L-line and G-line
Exposure source: 350 W
2003 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 6是一種高端掩模對齊器,用於UV納米光刻工藝的掩模圖樣對齊。這是半導體制造和光掩模制造的工具。它能夠提供6英寸晶片的亞微米對準能力,用於微電子元件的精細陣列。MICROTEC MA6具有獨特的光束掃描設備,包括四個面罩自動對焦引擎,總共8個自動對焦傳感器。它們提供高分辨率的光學圖樣識別,用於自動重新調整和校正掩模上的圖樣。高分辨率成像系統還能夠檢測到掩模中的輕微失真以及低至0.3微米的像素分辨率。該工具旨在提供高吞吐量和快速對齊時間,6英寸晶圓的循環時間小於6分鐘。通過機載軟件實現的自動對準和優化,可以保證用戶的高產率和準確性。該單元還與高級布局編輯軟件兼容。該機器被設計為集成到現有的光刻環境中,並配有低壓和高壓電源,可為高吞吐量應用提供高達150瓦的功率。此外,功率是可調的,以確保恒定的電阻率和均勻性的曝光,從而能夠嚴格控制退火響應。KARL SUSS MA-6提供了一套全面的用戶控制,包括調整曝光時間、曝光區域和光束直徑。此外,還可以通過觸摸板控制對焦點、對準區域和光束格式進行小的調整。此外,該工具還配備了額外的功能,可實現圖案去色和標線添加。MICROTEC MA 6是一種可靠、精確的掩模對準器.它提供了一系列全面的功能,並為用戶提供了一個可靠的工具,該工具能夠提供亞微米的對齊功能和高吞吐量。MA 6適合於各種掩模模式的需求,包括與光掩模制造工藝和半導體制造相關的需求。
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