二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 6 #9375851 待售

ID: 9375851
晶圓大小: 6"
Mask aligner, 6" Substrate size: 6″ x 6″ Pieces down to 5 x 5 mm Mask size SEMI: Standard up to 7″ x 7″ Expsoure optics:: Wavelength range: UV400 350: 450 nm UV300 280: 350 nm UV250 240: 260 nm Exposure source: Hg lamp Power: 200 -1000 W HgXe lamp Power: 500 W Intensity uniformity: ± 5 % MO Exposure optics: ± 2.5 % Alignment stage: Movement range X: ± 10 mm Y: ± 5 mm θ: ± 5° Mechanical accuracy: 0.1 μm (step size).
KARL SUSS/MICROTEC MA 6掩模對準器是一種精密的光學設備,用於光刻膠在半導體基板上的精確應用。它能夠將標線定位在具有納米精度和可重復性的光刻塗層半導體上。該系統的工作原理是使用鏡子和透鏡將光投射到基板上,並創建明暗區域的圖案。這是由電荷耦合器件(CCD)照相機檢測到的,並且對圖像進行分析以使圖樣與基板對齊。MICROTEC MA6被設計為與許多基材材料兼容,如矽、砷化氙、多晶金剛石,以及石英和其他類似玻璃的材料。還配備了增加工作距離的扇束照明、高精度定位的高分辨率和高功率激光、提高圖案匹配精度的雙束曝光等特點。除了基本組件外,KARL SUSS MA-6還具有許多其他有用的功能,使其能夠針對各種應用進行定制。這些功能包括檢測非聚焦條件並自動校正,調整掩碼補償和圖像移位,存儲掩碼註冊數據的內存,以及用於處理元素之間復雜空間的多曝光模式。KARL SUSS/MICROTEC MA6還有一個獨特的光學面包板,有助於減少振動並允許光學元件同時對準。為了保證可靠和高精度的對齊,KARL SUSS MA 6具有掃描大小和模式可重復性等幾個軟件控制的對齊參數。該單元支持四種不同的對齊方法-並行處理、網格、陰影和整個布局。所有這些功能協同工作以提供快速、高度準確和可重復的對齊結果。KARL SUSS/MICROTEC MA-6具有廣泛的應用,從微電子到生物醫學應用。它被用於許多行業,包括光刻、玻璃食品和飲料瓶裝飾、薄膜太陽能電池加工、機器視覺和半導體晶圓加工。它也被用於生產各種元件,如微透鏡、透鏡和造型。總體而言,MA-6遮罩對準器是在半導體基板上精確制圖光刻膠的理想工具。它配備了先進的技術和功能,使其能夠適應各種應用,提供可重復和準確的結果。它是一種可靠高效的機器,在世界各地的許多行業中都有應用。
還沒有評論