二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen 2 #9352165 待售
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單擊可縮放
ID: 9352165
晶圓大小: 8"
優質的: 2007
Mask aligner, 8"
Top and backside alignment
Splitfield microscope
UV 400 Exposure optics
Wavelength range: 365-405 nm
Lamp house: 1000 W
CIC1200 Lamp power supply
BSA Chuck
Mask holder
Operations manual
Documentation
Operation modes:
Hard contact
Soft contact
Vacuum contact
Proximity
Ellipsoidal mirror has been replaced
UV Bulb has been replaced
Cold light mirror
Front turning mirror
Front lens
Shutter cylinders has been replaced
Mirror house cylinder has been replaced
Microscope illumination bulbs has been replaced
Microscope assembly
Optical microscope alignment
WEC Head
Pneumatic regulators
Cover
Isolation table:
Air bag
Air line
Wheels
Leveling feet
Power supply: 200-240 V, 50/60 Hz
2007 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2是光刻工藝中使用的半自動蒙版對齊器。該掩模對齊器用於處理光掩模和晶片基板，以創建高精度和精確度的設備。Gen 2具有許多功能,可以在蝕刻和制造半導體器件時提高速度、精度和可靠性。MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2利用最新的光學技術和自動精確對準,實現精確的小規模陣列。掩模對齊器是自訂配置，以滿足使用者的需求，其特性包括可調節的掩模放置場、用於掩模傳輸和對準的步進電機驅動系統，以及高精度的掩模定位系統。此外，其先進的溫度控制技術確保了沈積和模式的一致結果。為確保精度,KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN2能夠實現亞微米分辨率,精度高達+/-20 nm。用戶可以配置對齊器來處理各種基板,包括直徑最大為8英寸的基板。此外,計算機還具有靈活的體系結構,使用戶能夠自定義其設置,以滿足各種應用程序和流程要求。KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN2適合制造一系列半導體器件，如集成電路、晶體管和內存芯片。此外,它的軟件包允許用戶執行全面的數據記錄和分析,使用戶能夠輕松、自信地監控其計算機的性能。KARL SUSS MA 8/BA 8 Gen 2是一種可靠、高效的掩模對準器，旨在提高小規模光刻的吞吐量和準確性。憑借先進的光學性能和精確的對準能力,Gen 2確保了高質量的結果。它具有可自定義的選項，是任何半導體制造應用的完美工業工具。
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