二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293609808 待售
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單擊可縮放
ID: 293609808
Mask aligner
Movement range mask aligner mode: X +/-5.0mm, Y +/- 5.0mm, Theta +/-5°
Movement range bond aligner mode: X +/-3.0mm, Y +/- 3.0mm, Theta +/-3°
Zero position:
Machine base frame: Mechanical, pneumatic, electrical 230V 50/60Hz
Joystick X/Y- and THETA for alignment stage control
TSA Microscope stage with manual / Motorized X-Y-manipulator and rotation
Integrated microscope tilt
BA function:
Manual loading and unloading
PLC Control with LCD display
WINDOWS GUI
Wafer 3" up to 200 mm diameter for bond application
Operator manual
For BSA microscopes with working distance 33mm
Adaption kit Included for constant dose exposure mode
Implemented tooling rack for tooling storage
Qty / Part number / Description
(1) / G206986 / Mask and bond aligner
(1) / 100002005 / Pneumatic expansion kit (BA/UV-NIL/SCIL/SMILE)
(1) / G207694 / Housing TSA/BSA
(1) / 100002830 / Alignment stage WD-33/MOT/A-200
(1) / G207720 / Operation desk mot
(1) / G206685 / M608 Microscope lift mot
(1) / 100000786 / M608 Visual / Screen splitfield microscope / AL400
(2) / G156881 / Turret
(2) / G145984 / Single objective umpl FL 5X/0.15
(1) / G206017 / Exposure unit LH1000
(1) / G179183 / Lamp adapter LH1000/1000W
(1) / G202518 / Lamp power supply unit cic 1200/LH1000
(1) / G206080 / OPTICS UV400/HR/W-200/LH1500
(1) / G206829 / 2 Channels light-sensor 365/405NMFORCIC
(1) / 100018553 / Adapter system for maskholder
(1) / 100008204 / Mask holder
(1) / 100020052 / Mask holder BL/PROX/CONT/M-7-9/W-150.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3是一種用於光刻應用的高精度、高精度的掩模對準器。該設備主要用於生產精密微電路和光刻蒙版，執行蒙版對準、晶圓曝光和升空過程。MICROTEC MA8BA8-GEN3掩模對準器配備了二維、兩軸微驅動,能夠提供一流的精度、準確性和精確度,而不會犧牲時間或精力-即使是高密度對準。KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3具有高達8微米的分辨率,具有自動預對準配準和高級聚焦控制等高級功能。此外,掩模對準器是無人駕駛的,具有光學對準功能,可確保高精度定位。該裝置支持特殊材料，如薄膜，其優化的薄玻璃操控機構。此外,通過可變對準速度和角度調整,KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3能夠減少循環時間,防止聚焦變化。為了進行校正,還提供了一系列圖形用戶界面,可幫助優化和排除掩碼對齊器的故障。這包括一個圖形模擬功能，以確保準確的對齊結果之前和過程中。為進一步確保高精度,KARL SUSS MA8BA8-GEN3掩模對準器還支持多個檢查和校準位置,包括非接觸式非接觸式深度測量系統。MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3最多可容納6臺CCD攝像機,適用於批處理或單晶片應用。它還具有安裝在炮塔上的視口，具有較低的熱色散，可增強激光對準，以及易於對準的旋轉操縱桿。掩模對準器使用MICROTEC SuperMultiDrive軟件,使其與所有標準的熱、電子束和光刻系統兼容。MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3掩模對準器具有無與倫比的精度和精確度,為光掩模和晶圓曝光提供了出色的光刻效果。此設備具有卓越的晶圓處理能力,是任何微電子設備的基本工具。
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