二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293633676 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3掩模對準器是一種先進的光刻設備，用於制造集成電路和其他高精度和高精度的微電子結構。該掩模對準器具有低粒子發射、高生產率、可靠操作等特點，以滿足現代光刻應用的需求。MICROTEC MA8BA8-GEN3掩模對齊器配有高分辨率半自動線性級,無需手動調整即可實現精確對齊。它還有一個大的機器空間（190 mm x 290 mm），可以容納多種基板。MICROTEC口罩對準器設計有壽命長的燈，可調節的聚焦和曝光時間，曝光精度為0.25 µm。對準器中的光學設備具有高達兩微米的超高分辨率，以確保極精確的圖樣配準。KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3掩碼對齊器還提供直觀的軟件控制對齊系統，提供簡單的批處方轉換和方便的遠程對齊調整。對準器包括傳統單步、雙步和亞微米曝光能力的三種曝光模式，以及具有出色曝光精度和可重復性的曝光控制。MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3掩模對準器配有一個自動化晶圓處理單元，可處理多達八個不同直徑（小於或大於8"）的晶圓。自動化機器還可以一次性處理10個口罩片，以提高生產率。這些功能共同為用戶提供了快速、準確的光刻結果。最後，為了提高可靠性和減少磨損，MA 8/BA 8 Gen3面罩對準器配備了維護跟蹤機。此工具允許用戶監視組件、測量性能和檢查預防性維護任務。這種維護跟蹤資產確保了掩模對準器以最高效率運行，從而保證了可靠的運行和優異的效果。