二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293800513 待售

ID: 293800513
晶圓大小: 8"
優質的: 2017
Mask aligner, 8" Alignment functions: Top Side Alignment (TSA) Bottom Side Alignment (BSA) Substrate size: Up to 8“ x 8” Resolution: 0.5 µm BSA Alignment accuracy: <1 µm Alignment gap programmable: 1 to 100 µm Mask aligner mode: X ±5.0 mm, Y±5.0, Θ±5° Bond aligner mode: X ±3.0 mm, Y±3.0, Θ±3° Motorized stage: 0.1 µm LH1000 Exposure unit LH1500 Lamp housing unit PLC Control with LCD Display Operating system: Windows GUI 2017 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3是一種全自動掩模對齊器,用於在生產運行中快速準確地暴露晶片。該機組由吞吐量微調器、精確的圖樣配準設備和高性能聚酰亞胺抗蝕劑系統組成。MICROTEC MA8BA8-GEN3上的吞吐量微調器能夠快速處理,吞吐量速度高達每小時8個晶圓。旋轉器使用高度精確的速度控制單元,以確保一致和可靠的曝光。此外,旋轉器通過其獲得專利的3D自動聚焦功能,可以精確控制焦點深度,還包括跟蹤和校正基板上重大位置錯誤的基準跟蹤機器。設計了KARL SUSS MA 8/BA 8 GEN 3型式配準工具,用於晶片上精細型式的快速完整配準。該裝置配備了邊緣檢測資產和圖像針背捕獲模型,以獲得高精度的對準性能。此外,一套高分辨率變焦光學元件可以精確檢查圖案,以確保質量對齊。MICROTEC MA 8/BA 8 GEN 3的聚酰亞胺抗蝕劑設備設計用於各種抗蝕劑和基材晶片的暴露。該單元配備了廣泛的可變曝光參數,包括強度、曝光面積和分辨率,在應用上具有很大的靈活性。它還配備了先進的汙染控制系統,能準確控制殘留的大氣顆粒汙染。MA8BA8-GEN3是一種經濟高效且可靠的面罩對齊器,設計用於生產各種基板的高精度圖樣對齊和抵抗的運行。它具有吞吐量微調的快速處理能力,其精確的圖樣配準和聚酰亞胺抗蝕劑系統保證了細膩圖樣的質量對齊。最後,該裝置還包括一個先進的汙染控制裝置,以提高工藝的均勻性。
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