二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 Gen3 #293812008 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen3是一種非常可靠、準確和高效的下一代掩模對齊器。它是一種通用設備，用於在基板表面沈積和對齊光掩模，並以納米級精度精確蝕刻、圖案或形成層結構。該器件常用於微電子器件制造、表面工程、光學或光電器件制造等領域。MICROTEC Aligner裝有波長為365 nm的先進光學設備。該系統由激光二極管、空間濾波器、衍射光柵和均勻照明的相位板組成。它允許廣泛的曝光設置,包括1.5至15秒的曝光時間,以及小至1.5 um的可重復曝光。激光光斑尺寸可從5-60微米調整，確保在光掩模的特征內精確和可重復對準。設備直觀的觸摸屏控制面板使編程操作變得簡單方便。KARL SUSS Aligner設計精確度和可靠性。集成的線性執行器可確保基板的精確和可重復放置,而CAD到玻璃對齊單元的對齊精度可高達5 nm。高精度M1對準機具30毫秒的快速采集時間，無接觸可提供快速可靠的對準。該設備還具有強大的圖像處理模塊,可在幾秒鐘內實現自動基準對齊和質量控制。KARL SUSS/MICROTEC Aligner集成了一系列附件和選件,有助於進一步提高其準確性、速度和可靠性。它與提供用戶友好界面的AutoMask等最新軟件兼容。它還集成了Nano-Fiducial Control等創新技術，以提高圖樣精度。另外，它與各種形狀的晶片、凝膠/色素聚酰亞胺、柔性基板等一系列可互換基板和真空配件兼容。MICROTEC Aligner提供卓越的性能、準確性和可靠性。其先進的光學工具、精密元件和直觀的軟件使其成為光掩模對準器的絕佳選擇。它非常適合廣泛的設備制造過程，包括微電子設備、光電子、表面工程和其他精密工程應用。