二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 #293609999 待售

MICROTEC MA 8和BA 8是用於生產半導體工業中使用的光學蒙版的蒙版對齊器，先進的光刻工具。這些遮罩對準器具有計算機控制的定位設備，能夠精確對準和曝光放置在機器內部鍍鉻條上的感光膜。MA 8和BA 8提供快速、精確的對準,極精確的定位精度高達50 nm,可重復性高達800 nm。對齊系統允許在已知叠加坐標時使用零移位校準來註冊叠加。每個遮罩對準器都配有自己的150 W紫外線鹵素燈和曝光所需的其他組件，包括一個石英照明光學單元和具有最小失真和均勻照明場的準直儀。曝光控制通過自動快門機和定時曝光設置處理。安全已集成到系統中,具有防止電擊和灰塵汙染的功能,燈具上配有安全罩,以及用於監控暴露材料的攝像頭工具。其他功能包括用戶友好的觸摸屏界面和圖形用戶界面,以便於功能導航。MA 8型號支持高達200 x 200 mm的工作平面和高達6.5級的屏蔽,而BA 8支持高達400 x 400 mm和高達24級的屏蔽。這兩個系統都有實時校準電子和虛擬平場校正軟件，允許提高精度和控制。系統的設計還通過使用低噪聲定位資產來確保操作過程中的低振動和靜音操作。這些掩模對齊器設計為易於使用,同時通過專業級組件提供可靠性和精確度。MA 8和BA 8為生產半導體工業中使用的光學掩模提供了可靠的光刻選項。