二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 #9276692 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8是一種在微電子工業中用來製造半導體晶片光刻蒙版的蒙版對齊器。它是為處理光阻抗劑而設計的，也是為處理不等平面化的基材而設計的。MICROTEC MA8/ BA8提供優於1微米的精確晶片與掩模對準精度,非常適合制造高分辨率微電子器件。KARL SUSS MA8/ BA8是由投影儀單元和對準設備組成的掩碼對齊器。投影儀單元是一種cw激光二極管，能夠投射尺寸最大為2微米的曝光點，並且可以曝光高度最大為5 µm的基板。對準系統由一個4軸步進電機組成，它可以調整面罩相對於基板和光源的位置。該裝置配有兩軸手動升降機，便於口罩對準。KARL SUSS/MICROTEC MA8/ BA8是一種高精度掩模對準器，主要用於半導體行業，因為它能夠生產用於薄膜晶體管和集成電路的高分辨率光刻掩模。MICROTEC MA 8/BA 8采用膠片對膠片技術，與其他光刻面膜相比，可以獲得更準確的結果。這種膠片-膠片技術確保每一層面膜與基板完美對齊,使用戶能夠生產寬度最小、功能尺寸小至幾納米的面膜。此外，MICROTEC MA8/ BA8利用聚焦激光曝光工具，可以精確控制基板上曝光點和圖案的位置。這允許用戶生成無法與其他掩碼對齊系統一起生成的高度復雜的模式。KARL SUSS MA8/ BA8是一種功能強大且用途廣泛的掩模對齊器，用於半導體和生物技術等多個行業。它能夠生產高質量的光刻口罩，用於從電路板設計到醫學測試的各種應用。KARL SUSS/MICROTEC MA8/ BA8是一種高效且經濟實惠的掩模對齊器,它使用戶能夠以高精度生成高分辨率圖樣。