二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 Gen 2 #293609268 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8 Gen 2是一種用於制造半導體光掩模的自動掩模對準器。口罩對齊器非常適合較大的口罩尺寸，並提供高分辨率和基板多功能性。這是一個兩步過程，使用接觸曝光和投影打印精確對齊蝕刻圖案與設計的光掩模。這是通過一系列經過仔細校準的步驟完成的，這些步驟都是完全自動化的。設備配備精密對齊的掃描頭組件和先進的軟件控制。掃描頭通過嵌入式傳感器和編入控制單元的算法獲取基板細節（如溝槽寬度、曲率、焦點等）。隨後，掃描頭通過激光和光學系統將光掩模的預期位置轉換到基板上。這提供了比傳統接觸曝光系統高得多的分辨率和準確性。MICROTEC MA 8 Gen 2有5種基板尺寸：4"、5"、6"、8"和12"。它有75 µm至300 µm的投影印刷區，分辨率高達3 mm。該單元提供多種晶片板設計和尺寸，允許用戶容納多種基板類型。KARL SUSS MA 8/GEN 2除了與掩碼對齊器相關的功能外還有許多功能。它的設計考慮到健康和安全，其開放式體系結構可以很容易地集成到其他自動化系統中。它還通過自動清洗和校準周期來最大限度地提高可靠性和性能。它易於跟蹤的命令和鎖定機制有助於在整個機器中高效傳輸口罩。此外,MA 8/GEN 2與Windows和Linux系統兼容,可輕松集成到現有產品或測試環境中。KARL SUSS MA 8 Gen 2是接觸和光掩模生產的理想選擇。它的高分辨率、基板可變性和自動化提供了高效、高效、準確的掩模處理。它開放的體系結構和與現有系統的兼容性使得它成為許多半導體器件制造場景的絕佳選擇。