二手 KARL SUSS / MICROTEC MA / BA 6 #293826496 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA/BA 6是一種全自動晶片步進/掩模對齊器，用於將薄圖樣的箔（掩模）對齊基板。MICROTEC MA/BA 6常用於微電子工業和研究機構的製造用途。晶片步進/掩模對準器采用「梁」設計，包括兩個帶有檢流計和控制器的獨立6軸控制元件。檢流計控制基板平面表面的掃描。控制器在所有三個維度上都具有精確的坐標系,位置精度很高。KARL SUSS MA/BA 6能夠處理直徑達8英寸（200毫米）的晶片。它具有全方位的蒙版尺寸,從6英寸（152毫米）到8英寸（200毫米）不等。MA/BA 6的曝光場最小為5.5 m 5.5 m,最大為8 m 8 m。步進器設計有一個指標設備，允許精確的重復性和準確性。這是通過「四點評分地址」實現的，該地址包括四個在索引系統識別的掩模（或無色標線）邊緣均勻隔開的孔。KARL SUSS/MICROTEC MA/BA 6有幾個可選功能，如泡沫調節單元，使用戶能夠為正在安裝在機器上的掩模或標線設置特定的張力。晶圓步進器還具有手動操作的負載鎖，可用於裝載單個或多個基板，並允許它們在曝光/對準過程前冷卻。MICROTEC MA/BA 6還包括一個串聯視覺工具，它使用多個攝像機捕捉對齊目標的圖像進行比較。KARL SUSS MA/BA 6的一些更高級的功能包括：對連續運行的幾個任務進行編程的功能；高分辨率R2R掩碼板閱讀器以及強大的模式匹配算法。對於需要更高精度的任務，MA/BA 6可以配備一個可選的偏轉器，允許調節曝光光束一個額外的精細水平。KARL SUSS/MICROTEC MA/BA 6還具有廣泛的兼容附件,使用戶能夠進一步定制資產。總體而言,MICROTEC MA/BA 6是一種先進的自動化晶片步進/掩模對齊器,可幫助優化對齊和曝光過程的準確性和可重復性。它的特性和兼容的配件使用戶能夠定制模型以滿足他們特定的制造需求。