二手 KARL SUSS / MICROTEC MA200 GEN3 #293829722 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA200 GEN3是專門為高科技光刻工藝設計的自動化高精度掩模對齊器。此工具用於創建光掩模,以精確繪制薄膜塗層、抗蝕劑和油墨等光材料的圖案。MICROTEC MA200 GEN3能夠產生小至0.5 μ m、亞微米精度和可重復性的圖樣。該設備還具有很高的空間分辨率和極低的暴露劑量變化。KARL SUSS MA200 GEN3配備了掃描XY級、顯微鏡、對準系統、曝光單元以及一系列其他控制和監控功能。運動階段能夠在X、Y、Theta和Do me軸中進行精確、可重復的運動，允許以納米精度對整個曝光單元進行亞微米定位。曝光單元使用變速掃描機根據整個曝光區域所需的模式密度來改變曝光熱量。對準工具包括一種高精度成像資產，能夠以高分辨率和準確度自動對準宏觀、微觀和納米模式。顯微鏡允許直接控制和觀察曝光和對準過程。對齊措施包括各種選項,例如基於預定義參考引腳的邊脊對齊、點對點對準和對準。內置的基於軟件的方法還允許實時優化對齊精度。為控制所有子系統MA200 GEN3配備了數字運動控制器、溫度控制模型、曝光控制器和數字圖像處理系統。這些子系統監視和控制所有設備組件，並集成不同的控制參數，以確保一致的輸出質量。KARL SUSS/MICROTEC MA200 GEN3是市場上最先進的口罩對齊器。它提供了高效、精確的光合材料和復雜的面膜的圖樣，高達5x5厘米²。MICROTEC MA200 GEN3具有很高的分辨率、準確性和可重復性，是生產電子電路、光電器件、顯示器和其他精確制圖應用的理想選擇。