二手 KARL SUSS / MICROTEC MJB-21 #9140521 待售

KARL SUSS/MICROTEC MJB-21是一種高精度的掩模對齊器,主要用於光刻處理。它旨在為亞微米半導體器件和部件的精確制造提供一個幹凈、安全和可靠的環境。MICROTEC MJB-21具有150毫米x 190毫米的加熱級，允許4英寸基板運動。它具有超過1 x 1「區域的均勻曝光，在4」晶圓上的最大對準點位置為5微米。此外，KARL SUSS MJB 21還有一個具有圖像處理功能的對準監視器，用於實現設備結構的精確對準和鍵合。KARL SUSS/MICROTEC MJB 21具有兩個獨立的可編程400瓦汞弧燈，壓力控制均勻曝光面積為1×1英寸。這些燈能夠獨立地改變曝光時間,從10秒到250秒,每cm2的最大輸出功率為11 mJ。這樣就可以靈活處理各種材料。MICROTEC MJB 21使用準直顯微鏡為用戶提供快速、準確和可重復的對準,並使用相對於掩模的基板手動或自動對準。MJB-21面罩對準器在舞臺上包含一個加熱元件，可設置在室溫最高100攝氏度，濕度可調節，可針對每一種應用進行量身定制。該級還配備了精確定位和真空夾緊設備，可實現精確的基板放置和0.5微米的精細臺階。KARL SUSS MJB-21包括一個遠程診斷和維護接口,可簡化設置並提高整體可靠性。MJB 21還利用先進的真空系統最大限度地減少空氣在對準過程中的移動。這確保了與可重復結果的精確對齊,並減少了設備的汙染。KARL SUSS/MICROTEC MJB-21有一個可自動同時處理兩個口罩的雙提升裝置和一個可精確定位兩個口罩的定心機。這樣,即使布局復雜,也可以對設備進行更高效、更準確的處理。MICROTEC MJB-21是一種高精度的掩模對齊器，旨在為用戶提供最先進、最精確的光刻處理。它提供了一個1x1「的均勻暴露區域，最大對準點放置在4」晶圓上5微米。它具有兩個獨立的可編程400瓦汞弧燈，一個壓力控制的均勻曝光面積1×1英寸，一個遠程診斷和維護接口，一個先進的真空工具，以及一個可同時處理兩個口罩的雙重升空資產。所有這些特性使得KARL SUSS MJB 21成為高效、精確光刻處理的理想工具。