二手 KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #76306 待售
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ID: 76306
Aligner
Topside
M400 Normalfield Microscope with revolving objective turret and trinocular microscope head
Objectives: LEITZ NPL 5x, 10x, and 20x
Oculars: 10x Eyepieces
Mercury (Hg) lamp: 350 W
Exposure optics: UV400
Optical sensor: CH1: 365nm, CH2: 405nm
Timer: Digital
CIC Power supply: CIC 1000 Constant intensity controller
Standard mask holder
Wafer alignment chuck.
KARL SUSS/MICROTEC MJB-3是一種掩模對齊器,也稱為步進器,用於創建半導體器件。它是一種光刻工具,非常適合創建多種組件,如晶體管、二極管、電阻器、內存單元和電容器。MICROTEC MJB3通過在半導體材料的表面上投射光或遮罩的模式來運作。然後,掩模對齊器使用一對精密控制的x和y-可移動級來精確對齊半導體晶片上的圖樣。這是由計算機控制的步進機制完成的,該機制同步掩模和半導體晶圓的x和y軸運動。此外,KARL SUSS MJB3還有一個光學對準設備,這有助於確保圖案被精確放置。MJB-3采用了最先進的微光刻技術,稱為深反應性離子蝕刻(DRIE)。這種技術采用反應性離子束蝕刻和深紫外光刻相結合,以高精度精確蝕刻圖樣到半導體晶片表面。KARL SUSS MJB3還具有先進的光學對準系統。這樣可以確保將掩模精確地放置在半導體晶圓上,甚至降到納米尺度。此外,此對齊單元還有助於減少蝕刻過程中可能發生的任何失真。此外,KARL SUSS/MICROTEC MJB3還利用了許多安全功能。這些有助於確保工具以安全的方式操作,從而保護操作員和晶片免受潛在的損壞。其他特性包括防汙染機器,有助於防止灰塵和顆粒汙染設備和半導體晶片。總體而言,KARL SUSS/MICROTEC MJB3是一種先進且高效的掩模對齊器,非常適合生產各種不同的元件,用於半導體器件。它結合了計算機控制的精密運動、光學對準和先進的DRIE顯微光刻技術,成為生產高質量半導體元件的寶貴工具。
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